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図3 ダイオキシン類分析フローチャート(試料液の調製)及びGC/MS操作条件
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│前処理液│
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│硫酸洗浄│濃硫酸 10 ml(硫酸層の色が消えるまで繰り返す)
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│ヘキサン層│ 硫酸層(使用せず)
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├─精製水 50ml ×3回
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│脱 水│ (無水硫酸ナトリウム 10gを入れたロートを
└─┬─┘ 通過させることによる)
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│濃 縮│(ロータリエバポレータ 40℃以下)約5ml
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(底質試料) │ (生物試料)
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│無水硫酸ナトリウム+硝酸銀シルカゲル+ │ │無水硫酸ナトリウム+ │
│ シリカゲルカラムクロマトグラフィー2g+ │ │シリカゲルカラムクロマトグラフィー2g+ │
│ 1g+2g(130℃ 3時間加熱活性化) │ │ 2g(130℃ 3時間加熱活性化) │
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│
├─ヘキサン 200 ml
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│濃 縮│(ロータリエバポレータ 40℃以下) 約5ml
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│無水硫酸ナトリウム+ │
│アルミナカラムクロマトグラフィー│
│ 2g+15g(塩基性,活性化度T) │
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├─ジクロロメタンヘキサン (1:99 v/v) 130 ml
│
├─ジクロロメタンヘキサン (6:4 v/v) 200 ml
┌───<GC/MS操作条件>──────┐ ┌─┴─┐
│ │ │濃 縮│(ロータリエバポレータ 40℃以下)
│ カラム : (a) Fused Silica SP-2331 │ └─┬─┘
│ (キャピラリ-カラム) 直径 0.25mm × 30m │ ┌─┴────────┐
│ (b) Fused Silica DB-17 │ │ヘキサン 0.5mlに溶解│
│ 直径 0.25mm × 30m │ └─┬────────┘
│ │ ┌─┴─────────────────────┐
│ 導入系 : スプリットレス │ │無水硫酸ナトリウム+ │
│ 温 度 : 試料注入口 260℃ │ │活性炭埋蔵シリカゲルカラムクロマトグラフィー+ │
│ (a) 150℃(1分間保持)→ │ │ 無水硫酸ナトリウム2g+0.5g(乾充填)+1g│
│ (15℃/min昇温)→ │ └─┬─────────────────────┘
│ 200℃(5分間保持)→ │ 30分間放置
│ (2℃/min昇温)→ │ ├─ジクロロメタンヘキサン (1:3 v/v) 100 ml
│ 250℃(30分間保持) │ ├─トルエン 200ml
│ (b) 150℃(1分間保持)→ │ ┌─┴─┐
│ (15℃/min昇温)→ │ │濃 縮│(ロータリエバポレータ 40℃以下) 約5ml
│ 270℃(30分間保持) │ └─┬─┘
│ キャリアーガス : ヘリウム 1.0 kg/cm2│ ├─窒素気流下で溶媒留去
│ イオン源温度 : 260℃ │ ┌─┴────────┐
│ イオン化電圧 : 30eV │ │デカン 50 μlに溶解 │
│ イオン化電流 : 500μA │ └─┬────────┘
│ イオン化法 : EI │ ┌─┴───┐
│ 分解能 : 7,000〜10,000 │ │GC/MS│ 1 μl
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