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諮 問 第 ５３号
環水規 第１７５号 平成９年５月１４日 中央環境審議会会長 近 藤 次 郎 殿 環境庁長官 石井 道子
環境基本法（平成５年法律第９１号）第４１条第２項第３号の規定に基づき、水質汚濁防止法の特定施設の追加等について、貴審議会の意見を求める。 [諮問理由] 水質汚濁防止法においては、公共用水域及び地下水の水質を汚濁するおそれのある汚水又は廃液を排出する施設を特定施設として政令で指定し、排水規制等の対象としている。 この特定施設については、工場及び事業場の汚水等の排出実態の変化や規制対象物質の追加等に伴い、必要な施設を順次追加してきているが、平成４年度以降は追加を行っていない。 この間、平成６年には１３の有害物質が新たに水質汚濁防止法上の規制対象物質に追加されたほか、未規制の施設について水質保全上の問題が指摘されるなど、排水規制の見直し、強化を行う必要性が高まっている。 このため、平成６年に規制対象物質に追加された１３の有害物質を排出する施設や、その他水質汚濁の原因となるおそれのある施設について、特定施設に追加するなど必要な措置を講じる必要がある。 今回の諮問は、こうした観点から、水質汚濁防止法の特定施設の追加等について、貴審議会の意見を求めるものである。 |