１の表カルシウム ３―オキシド―５―オキソ―４―プロピオニル―３―シクロヘキセンカルボキシラート（別名プロヘキサジオンカルシウム塩）の項の次に次のように加える。
| Ｓ―４―クロロ―Ｎ―イソプロピルカルバニロイルメチル Ｏ，Ｏ―ジメチル ホスホロジチオアート（別名アニロホス） | ０．０３ｍｇ／Ｌ |
１の表（ＲＳ）―５―クロロ―Ｎ―（１、３―ジヒドロ―１、１、３―トリメチルイソベンゾフラン―４―イル）―１、３―ジメチルピラゾール―４―カルボキサミド（別名フラメトピル）の項の次に次のように加える。
| ３―（２―クロロ―１，３―チアゾール―５―イルメチル）―５―メチル―１，３，５―オキサジアジナン―４―イリデン（ニトロ）アミン（別名チアメトキサム） | ０．５ｍｇ／Ｌ |
１の表２′―ｔｅｒｔ―ブチル―５―メチル―２′―（３、５―キシロイル）クロマン―６―カルボヒドラジド（別名クロマフェノジド）の項の次に次のように加える。
| Ｎ―ｔｅｒｔ―ブチル―Ｎ′―（３―メトキシ―ｏ―トルオイル）―３，５―キシロヒドラジド（別名メトキシフェノジド） | ３ｍｇ／Ｌ |
２（１０５）から２（１２４）までを２（１０８）から２（１２７）までとし、２（１０４）を２（１０６）とし、２（１０６）の次に次のように加える。
（１０７） メトキシフェノジド試験法
ア 装置 紫外分光光度型検出器付き高速液体クロマトグラフを用いる。
イ 試薬試液
アセトニトリル アセトニトリル（特級）
アセトン アセトン（特級）
塩化ナトリウム 塩化ナトリウム（特級）
酢酸エチル 酢酸エチル（特級）
ヘキサン ヘキサン（特級）
無水硫酸ナトリウム 無水硫酸ナトリウム（特級）
メタノール メタノール（特級）
ケイ酸マグネシウムミニカラム 内径１０ｍｍ、長さ２５ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用合成ケイ酸マグネシウム９１０ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
固相抽出カラム 内径９ｍｍ、長さ６０ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用Ｃ１８シリカゲル（シリカゲルにオクタデシルシランを化学的に結合させたもの）５００ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
メトキシフェノジド標準品 本品は、メトキシフェノジド９９．８％以上を含み、融点は２０４〜２０６℃である。
ウ 試験溶液の調製
Ａ法 溶媒抽出法
１） 試料２００ｍｌを５００ｍｌの分液漏斗に量り取り、アセトン５ｍｌ、飽和塩化ナトリウム溶液８０ｍｌ及び酢酸エチル１００ｍｌを加え、振とう機を用いて５分間激しく振とうし、暫時放置した後、酢酸エチル層を分取する。残った水層についても、酢酸エチル１００ｍｌを加え、同様の振とう及び分取の操作を繰り返す。全酢酸エチル層を５００ｍｌの三角フラスコに合わせ、無水硫酸ナトリウム２０ｇを加え、時々振り混ぜながら３０分間放置した後、５００ｍｌのナス型フラスコ中にろ過する。使用した三角フラスコを酢酸エチル２０ｍｌで洗い、その洗液でろ紙上の残留物を洗い、その洗液をナス型フラスコに合わせ、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。この残留物にヘキサン及びアセトンの混液（１９：１）５ｍｌを加えて溶かす。
２） あらかじめ、ケイ酸マグネシウムミニカラムにヘキサン５ｍｌを流し入れ、洗浄しておく。これにナス型フラスコ中の溶液を流し入れ、ヘキサン及びアセトンの混液（１９：１）１５ｍｌで展開し、流出液を捨てる。次いでヘキサン及びアセトンの混液（１７：３）２０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。この残留物にアセトニトリル及び蒸留水の混液（１：１）を加えて溶かし、２ｍｌとして試験溶液とする。
Ｂ法 固相抽出法
試料２００ｍｌを、あらかじめメタノール５ｍｌ、次いで蒸留水５ｍｌを順に流し入れ洗浄した固相抽出カラムに毎分１０〜２０ｍｌの流速で流し入れ、次いで蒸留水１０ｍｌを流し、流出液を捨てた後、約１分間吸引を続け水分を除去する。メタノール１０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。この残留物にヘキサン及びアセトンの混液（１９：１）５ｍｌを加えて溶かす。以下、Ａ法の２）と同様の操作を行う。
エ 高速液体クロマトグラフの操作条件
充てん剤 シリカゲルにオクタデシルシランを化学的に結合させたものを用いる。
分離管 内径２〜６ｍｍ、長さ１５〜３０ｃｍのステンレス管を用いる。
分離管槽温度 ４０℃
溶離液 アセトニトリル及び蒸留水の混液（１：１）を用い、メトキシフェノジドが１５〜２０分で流出するように流速を調整する。
検出器 波長２１０ｎｍで測定する。
感度 メトキシフェノジドの２ｎｇが十分確認できるように感度を調整する。
オ 検量線の作成
メトキシフェノジド標準品の５００ｍｇ／Ｌアセトニトリル溶液を調製し、この溶液をアセトニトリル及び蒸留水の混液（１：１）で希釈して０．１〜２ｍｇ／Ｌ溶液を数点調製し、それぞれを２０μｌずつ高速液体クロマトグラフに注入し、縦軸にピーク高、横軸に重量を取ってメトキシフェノジドの検量線を作成する。
カ 定量試験
試験溶液から２０μｌを取り、高速液体クロマトグラフに注入し、オの検量線によりメトキシフェノジドの重量を求め、これに基づき、試料中のメトキシフェノジドの濃度を算出する。
２（３１）から２（１０３）までを２（３３）から２（１０５）までとし、２（３０）を２（３１）とし、２（３１）の次に次のように加える。
（３２） チアメトキサム試験法
ア 装置 紫外分光光度型検出器付き高速液体クロマトグラフを用いる。
イ 試薬試液
アセトニトリル アセトニトリル（特級）
アセトン アセトン（特級）
塩化ナトリウム 塩化ナトリウム（特級）
酢酸エチル 酢酸エチル（特級）
メタノール メタノール（特級）
無水硫酸ナトリウム 無水硫酸ナトリウム（特級）
固相抽出カラム 内径１５ｍｍ、長さ６５ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用Ｃ１８シリカゲル（シリカゲルにオクタデシルシランを化学的に結合させたもの）１０００ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
ＳＣＸシリカゲルミニカラム 内径１５ｍｍ、長さ６５ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用ＳＣＸシリカゲル（シリカゲルにスルホフェニルプロピル基を化学的に結合させたもの）１０００ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
チアメトキサム標準品 本品は、チアメトキサム９９．３％以上を含み、融点は１３９．１℃である。
ウ 試験溶液の調製
Ａ法 溶媒抽出法
１） 試料１００ｍｌを３００ｍｌの分液漏斗に量り取り、塩化ナトリウム１０ｇ及び酢酸エチル５０ｍｌを加え、振とう機を用いて５分間激しく振とうし、暫時放置した後、酢酸エチル層を分取する。残った水層についても、酢酸エチル５０ｍｌを加え、同様の振とう及び分取の操作を繰り返す。全酢酸エチル層を３００ｍｌの三角フラスコに合わせ、無水硫酸ナトリウム２０ｇを加え、時々振り混ぜながら３０分間放置した後、３００ｍｌのナス型フラスコ中にろ過する。使用した三角フラスコを酢酸エチル２０ｍｌで洗い、その洗液でろ紙上の残留物を洗い、その洗液をナス型フラスコに合わせ、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。
２） この残留物に酢酸エチル５ｍｌを加えて溶かす。あらかじめ、ＳＣＸシリカゲルミニカラムにメタノール５ｍｌ及び酢酸エチル５ｍｌを流し入れ、洗浄しておく。これにナス型フラスコ中の溶液を流し入れ、アセトン５ｍｌで展開し、流出液を捨てる。次いでメタノール１０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。この残留物に蒸留水及びアセトニトリルの混液（４：１）を加えて溶かし、２ｍｌとして試験溶液とする。
Ｂ法 固相抽出法
試料１００ｍｌを、あらかじめアセトニトリル５ｍｌ、次いで蒸留水５ｍｌを順に流し入れ洗浄した固相抽出カラムに毎分１０〜２０ｍｌの流速で流し入れ、次いで蒸留水１０ｍｌを流し、流出液を捨てる。次いでアセトニトリル１０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。以下、この残留物についてＡ法の２）と同様の操作を行う。
エ 高速液体クロマトグラフの操作条件
充てん剤 シリカゲルにオクタデシルシランを化学的に結合させたものを用いる。
分離管 内径２〜６ｍｍ、長さ１５〜３０ｃｍのステンレス管を用いる。
分離管槽温度 ４０℃
溶離液 蒸留水及びアセトニトリルの混液（１７：３）を用い、チアメトキサムが１０〜１５分で流出するように流速を調整する。
検出器 波長２５８ｎｍで測定する。
感度 チアメトキサムの１ｎｇが十分確認できるように感度を調整する。
オ 検量線の作成
チアメトキサム標準品の５００ｍｇ／Ｌアセトニトリル溶液を調製し、この溶液を蒸留水及びアセトニトリルの混液（４：１）で希釈して０．０５〜１ｍｇ／Ｌ溶液を数点調製し、それぞれを２０μｌずつ高速液体クロマトグラフに注入し、縦軸にピーク高、横軸に重量を取ってチアメトキサムの検量線を作成する。
カ 定量試験
試験溶液から２０μｌを取り、高速液体クロマトグラフに注入し、オの検量線によりチアメトキサムの重量を求め、これに基づき、試料中のチアメトキサムの濃度を算出する。
２（２６）から２（２９）までを２（２７）から２（３０）までとし、２（２５）の次に次のように加える。
（２６） アニロホス試験法
ア 装置 ガスクロマトグラフ質量分析計又はアルカリ熱イオン型検出器若しくは高感度窒素・リン検出器付きガスクロマトグラフを用いる。
イ 試薬試液
アセトニトリル アセトニトリル（特級）
酢酸エチル 酢酸エチル（特級）
トルエン トルエン（特級）
ヘキサン ヘキサン（特級）
無水硫酸ナトリウム 無水硫酸ナトリウム（特級）
固相抽出カラム 内径１５ｍｍ、長さ６５ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用Ｃ１８シリカゲル（シリカゲルにオクタデシルシランを化学的に結合させたもの）１０００ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
シリカゲルミニカラム 内径１０ｍｍ、長さ２５ｍｍのカラムにカラムクロマトグラフィー用シリカゲル６９０ｍｇを充てんしたもの又はこれと同等の性能を有するもの
アニロホス標準品 本品は、アニロホス９９．５％以上を含み、融点は５０．５〜５２．５℃である。
ウ 試験溶液の調製
Ａ法 溶媒抽出法
１） 試料２００ｍｌを５００ｍｌの分液漏斗に量り取り、酢酸エチル１００ｍｌを加え、振とう機を用いて５分間激しく振とうし、暫時放置した後、酢酸エチル層を分取する。残った水層についても、酢酸エチル１００ｍｌを加え、同様の振とう及び分取の操作を繰り返す。全酢酸エチル層を５００ｍｌの三角フラスコに合わせ、無水硫酸ナトリウム２０ｇを加え、時々振り混ぜながら３０分間放置した後、５００ｍｌのナス型フラスコ中にろ過する。使用した三角フラスコを酢酸エチル２０ｍｌで洗い、その洗液でろ紙上の残留物を洗い、その洗液をナス型フラスコに合わせ、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。
２） この残留物にヘキサン及び酢酸エチルの混液（１９：１）５ｍｌを加えて溶かす。あらかじめ、シリカゲルミニカラムにヘキサン５ｍｌを流し入れ、洗浄しておく。これにナス型フラスコ中の溶液を流し入れ、ヘキサン及び酢酸エチルの混液（１９：１）１０ｍｌで展開し、流出液を捨てる。次いでヘキサン及び酢酸エチルの混液（４：１）２０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。この残留物にトルエンを加えて溶かし、１ｍｌとして試験溶液とする。
Ｂ法 固相抽出法
試料２００ｍｌを、あらかじめアセトニトリル５ｍｌ、次いで蒸留水５ｍｌを順に流し入れ洗浄した固相抽出カラムに毎分１０〜２０ｍｌの流速で流し入れ、次いで蒸留水１０ｍｌを流し、流出液を捨てた後、約１分間吸引を続け水分を除去する。アセトニトリル１０ｍｌで展開し、溶出液を５０ｍｌのナス型フラスコに取り、すり合わせ減圧濃縮器を用いて４０℃以下で溶媒を留去する。以下、この残留物についてＡ法の２）と同じ操作を行う。
エ 測定機器の操作条件
ガスクロマトグラフ部
分離管 内径０．２〜約０．７ｍｍ、長さ１５〜３０ｍの溶融シリカ製の管の内面に５０％フェニルメチルポリシロキサンを０．１〜１．５μｍの厚さで被覆したもの又はこれと同等の分離性能を有するものを用いる。
キャリヤーガス 高純度窒素ガス又はヘリウムガスを用い、内径０．２〜約０．７ｍｍの分離管に対して線速度を毎秒２０〜４０ｃｍとする。
試料導入部温度 スプリットレス方式の場合は２００〜２７０℃、コールドオンカラム方式の場合は１００〜約１５０℃
分離管槽昇温プログラム １００℃で２分保ち、１００〜約２８０℃の範囲で毎分２〜２０℃の昇温を行う。
検出部
１） 質量分析計
インターフェース部温度 ２００〜２７０℃
イオン源温度 １５０℃以上
測定質量数 ３３４、２２６、１２５
感度 アニロホスの０．１ｎｇが十分確認できるように感度を調整する。
２） アルカリ熱イオン型検出器又は高感度窒素・リン検出器
検出器温度 ２８０〜３００℃
ガス流量 水素ガス、空気及び追加ガス（高純度窒素ガス又はヘリウムガス）の流量を至適条件になるように調整する。
感度 アニロホスの０．１ｎｇが十分確認できるように感度を調整する。
オ 検量線の作成
アニロホス標準品の０．０５〜１ｍｇ／Ｌトルエン溶液を数点調製し、それぞれを２μｌずつガスクロマトグラフに注入し、縦軸にピーク高、横軸に重量を取ってアニロホスの検量線を作成する。
カ 定量試験
試験溶液から２μｌを取り、ガスクロマトグラフに注入し、オの検量線によりアニロホスの重量を求め、これに基づき、試料中のアニロホスの濃度を算出する。