アジア地域オゾン層保護担当官ネットワーク会合等の開催について

1.開催趣旨

　有害な紫外線を吸収するオゾン層は、1980年代から1990年代前半にかけて大きく減少し、現在も減少した状態が続いています。このため、その保護・回復のために、ＣＦＣ（クロロフルオロカーボン）等のオゾン層破壊物質に関するモントリオール議定書を踏まえ、日本等先進国のみならず、今後規制が本格化する途上国においても、オゾン層破壊物質の生産及び消費の削減を着実に進めることが必要不可欠です。
　日本等先進国に続いて、途上国でも、ＣＦＣについては1999年以降生産・消費規制が開始され、2010年には全廃予定、またＨＣＦＣ（ハイドロクロロフルオロカーボン）については2013年以降新たに生産・消費規制が開始され、2030年には全廃予定等とされています。このため、途上国や国際機関等に日本の技術・経験に係る情報提供を行いつつ、参加者の間の意見交換等を通じて途上国の取組を支援・促進するため、標記会合を開催します。

2.会合概要

　会合では、日本のオゾン層破壊物質の破壊処理に関する取組や技術について情報を提供するとともに、途上国のモントリオール議定書遵守支援方策、今後の協力の方向性等について議論する予定です。日本環境省からは、森谷大臣官房審議官が出席し、開会挨拶等を行う予定です。

○開催日：

2008年9月19日（金）〜22日（月）

○場所：

東京都内（八芳園、シェラトン都ホテル）

○主催：

日本国環境省、国連環境計画（ＵＮＥＰ）

○参加予定者（約50名）：

日本（環境省他）、アジア各国（中国、インド、スリランカ、モンゴル、韓国、イラン、パキスタン、バングラデシュ、ネパール、ブータン、アフガニスタン、モルジブ）、米国、オーストラリア、UNEP（国連環境計画）、モントリオール議定書多数国間基金事務局、UNDP（国連開発計画）、UNIDO（国連工業開発機関）、世界銀行等からの関係者

○使用言語：

英語

○公開の有無：

非公開